당사에서 개발 및 특화된 Plasma Source를 Dry strip 장비에 적용하여 Dry strip 프로세스를 보다 안정적이고 빠르게 처리합니다.

당사의 장비는 무산화 공정 사양을 만족하는 차세대 PR strip 장비로서 반도체 고객사로부터 품질 인증을 받은 차세대 무산화 공정 장비입니다.